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二氧化铈抛光介质制备通过鉴定

日期:2018-3-24(原创文章,禁止转载)

由江苏工业学院和江苏省陶瓷研究所有限公司共同承担的江苏省高新技术项目“纳米sp;

该项目由江苏工业学院陈志刚宝宝癫痫典型的症状院长主北京癫痫病那家最好持。他们采用六亚甲基四胺(HMT)为沉淀剂的均相沉淀法制备出了粒径为10~20nm的球形CeO2抛光介质,粉体颗粒尺寸均匀;采用尿素为沉淀剂的均相沉淀法制备出了100~300nm单分散球形CeO2,尺寸均一、可控。项目研究了醇水反应体系下超声辐射以及微波辐射等对CeO2粉体形核生长的影响规律,实现了粉体尺寸和形貌形成的可控性,具有创新性。

据悉,研究人员采用所研制的CeO2抛光介质对硅晶片和砷化镓晶片抛光,表面粗糙度分别为Ra≤0.089nm和Ra≤0.740nm,满足了超光滑加工的要求,在满足超光滑抛光的同时可提高抛光效率。应用试治疗癫痫病的方法有哪些验结果表明,该技术能明显降低硅晶片表面粗糙度,为集成电路基片超光滑加工提供了关键技术。

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